隨著信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,光學(xué)薄膜的需求不斷增大,對(duì)器1寺性的要求也越來(lái)越高。物理厚度是薄膜最基本的參數(shù)之一,它會(huì)影響整個(gè)器件的最終性能,因此決速而精準(zhǔn)地測(cè)量薄膜厚度具有重要的意義。臺(tái)階儀是常用的厚度測(cè)試方法,然而它需要在樣品上制作臺(tái)階,并且側(cè)試中機(jī)械睬針與樣品接觸,會(huì)對(duì)一些軟膜的表面造成損傷,因而非破壞的光學(xué)手段是更為理想的方法。傳統(tǒng)的側(cè)量薄膜物理厚度的光學(xué)方法主要有光度法和橢偏法兩種。其中光度...
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